浙江光特申请包含嵌入式金属接触的隔离深槽制备方法专利简化流程

AI科技 2025年08月06日 11:05 0 admin

金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，浙江光特科技有限公司申请一项名为“一种包含嵌入式金属接触的隔离深槽的制备方法”的专利，公开号CN120432434A，申请日期为2025年04月。

专利摘要显示，本发明涉及光电探测器件技术领域，尤其涉及一种包含嵌入式金属接触的隔离深槽的制备方法。本发明所述制备方法在制备得到第一深槽结构之后，得到第五中间结构之前不需要进行额外的光刻步骤，巧妙地利用了掩膜材料层的生长和定向刻蚀即可达到以下效果：1、在第一深槽结构的底部区域自动对准的掺杂层；2、在第一深槽结构的底部制备自动对准的第二深槽结构；3、精准控制金属埋层的接触面积和第二深槽结构的宽度；4、掩膜材料层以及金属埋层能够选择性的填充在需要的位置。因此，本发明所述制备方法能够简化流程，降低生产成本，达到嵌入式金属接触+深槽隔离一体化的目的。高效、可靠且适用于规模化生产。

天眼查资料显示，浙江光特科技有限公司，成立于2016年，位于绍兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江光特科技有限公司参与招投标项目10次，专利信息79条，此外企业还拥有行政许可2个。

本文源自金融界