三星显示申请沉积掩模和包括沉积掩模的沉积设备专利，提供了沉积掩模和包括沉积掩模的沉积设备

AI科技 2025年08月08日 20:15 0 aa

金融界2025年8月8日消息，国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“沉积掩模和包括沉积掩模的沉积设备”的专利，公开号CN120443102A，申请日期为2025年01月。

专利摘要显示，提供了沉积掩模和包括沉积掩模的沉积设备。沉积掩模包括：衬底，包括单元区域和除单元区域外的掩模框区域；以及掩模膜，设置在单元区域中的每一个中。掩模膜的截面结构包括其中无机层和金属层彼此交替堆叠的多层。