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2025-09-17 0
据上证报信息,有知情人士透露,z芯国际开始测试由本土公司研发的深紫外(DUV)光刻机,表明我国高端光刻机技术正逐步突破,光刻机热度随之回升。
尽管DUV光刻机不是最顶尖的EUV设备,但其在7nm及以上制程芯片中占主导地位,涵盖当前大多车用芯片、物联网芯片与AI处理器的生产需求。
随着AI技术推动先进制程需求爆发,以及国际高端光刻设备出口管制收紧,半导体国产化已刻不容缓,此次突破也为国产进程注入强劲信心。
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通过全资子公司持有上海微电子 10.779% 股权,为其重要股东。上海微电子是国内唯一可量产 90nm 前道光刻机的企业,28nm 浸没式光刻机已进入验证阶段。
为光刻机提供核心辅助材料光刻气,高纯度光刻气直供 ASML 子公司及全球主流光刻机厂商,用于光刻机曝光环节精准控制,其光刻气纯度达 99.999999%(8N 级),中标 ASML 全球供应链合作项目。
背靠长光机所,直接参与光刻机曝光系统、超精密光栅等核心研发,自主研发的 EUV 光刻物镜定位精度达 0.8nm,对标德国蔡司,技术路径高度协同 ASML 的 High-NA EUV 光刻机。
全球非线性光学晶体龙头,市占率超 60%,产品直供 ASML 光刻机激光光源系统,与中科院合作的固体激光驱动技术效率达 3.42%,助力国产 EUV 光源研发,DUV 光学透镜已进入上海微电子供应链。
为光刻机提供精密光学镜头,DUV 透镜直供上海微电子用于 28nm 光刻机物镜系统,其非球面镜片精度达纳米级,中标 ASML 合作项目。
全球少数能量产光刻机光场匀化器的企业,产品用于 ASML 曝光系统的激光束整形,开发的半导体激光退火系统已进入中芯国际供应链,EUV 光源调制技术与中科院合作推进。
半导体设备精密零部件龙头,产品覆盖光刻机腔体、匀气盘等核心部件,已进入 7nm 制程供应链,客户包括中芯国际、长江存储等头部晶圆厂。
国内高纯真空系统核心供应商,产品包括真空阀门、腔体等,直接供货上海微电子,其超高洁净管路系统适配 EUV 光刻机的 10^-12 Pa 级真空环境。
工业温控领军企业,为光刻机提供 24/7 恒温系统,控温精度 ±0.01℃,保障纳米级曝光稳定,其液冷方案应用于上海微电子 28nm 光刻机。
高端洁净室供应商,为光刻机提供 ISO Class 1 级超净环境解决方案,过滤效率达 99.9999%,其超薄型风机过滤机组已应用于上海微电子首台 28nm 光刻机。
免责声明:本文绝不构成任何投资建议、引导或承诺,仅供学术研讨,请审慎阅读。市场有风险,投资决策需建立在理性的独立思考之上。
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