国产芯片的“双核突破”：从GPU性能对标到光刻胶原始创新

排行榜 2025年08月02日 20:33 0 admin

文/低空经济探索者

——砺算GPU与清华光刻胶重塑半导体竞争格局

一、显卡战场：砺算7G100撕开性能缺口

当国产GPU在《黑神话：悟空》中实现1080P高画质70帧流畅运行时，中国显卡产业迎来了历史性拐点。砺算科技发布的7G100系列，首次以全自研“天图”架构突破技术封锁：

性能硬指标：Geekbench 6.4测试111,290分的成绩，超越RTX 4060约10%，逼近英伟达新一代RTX 5060；

生态破壁战：原生支持DirectX 12/Vulkan 1.3，摆脱国产GPU依赖第三方IP授权的掣肘；

量产路线图：6nm工艺显卡计划9月量产，覆盖游戏显卡与工作站市场，直面国际中端显卡竞争。

尽管驱动优化与游戏适配仍是短板，但7G100以接近RTX 4060的FireStrike跑分（26,800分），宣告国产GPU从“可用”迈向“好用”。

二、光刻胶革命：碲元素改写EUV游戏规则

在芯片制造最前线的光刻胶战场，清华大学团队用一克黑色粉末撬动全球格局。聚碲氧烷（PTeO）材料凭借碲原子40.5倍于碳的EUV吸收率，实现三重颠覆：

精度跃升：13.1 mJ/cm²低剂量曝光下达成18纳米线宽，线边缘粗糙度（LER）压至1.97纳米，优于国际水平60%；

成本重构：配套碲回收技术实现90%材料循环，江西铜业提纯产能与八亿时空百吨树脂产线构筑国产供应链；

设备零改造：直接兼容现有EUV光刻机，为中芯国际等厂商提供“即插即用”方案。

这项突破使中国首次掌握EUV光刻胶核心技术，打破日本企业垄断5纳米以下制程的“材料铁幕”。

三、技术共振：设计端与制造端的战略握手

砺算GPU与清华光刻胶的同期突破，揭示中国半导体自主化的新逻辑：

GPU破局点：7G100瞄准1000-3000元消费级市场，以RTX 4060性能锚定“主流替代”目标，预计2025年出货量达50万片；

光刻胶破链点：PTeO材料将EUV光刻胶成本降低30%，推动国产5纳米制程良率提升，获国家大基金三期重点扶持；

产业协同轴：当自研GPU架构遇见自主光刻材料，芯片设计-制造-封装的全链条正加速闭合。

结语：从替代到定义

砺算在显卡帧率测试中跑出的每一个数字，清华实验室里碲原子捕获的每一束极紫外光，都在改写中国芯片的生存法则——不再满足于替代进口，而是以原始创新定义技术标准。当7G100显卡驱动游戏画面的光影流动，当PTeO光刻胶在晶圆上刻出比头发丝细5000倍的线路，中国半导体产业正经历从“活下去”到“飞起来”的关键一跃。