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新凯来展品满场，独缺光刻机！国产半导体该冷静了

AI科技 2025年10月17日 15:09 0 admin

2025年10月15日，深圳会展中心办了场挺受关注的展，2025湾区半导体产业生态博览会，也就是大家说的湾芯展。

我特意去逛了逛，新凯来的展台前围了不少人，凑近一看，展品确实多，光学检测的“岳麓山”、X射线量测的“赤霞山-XP”，还有刻蚀、扩散、薄膜类的设备，光听名字就知道覆盖挺全。

连它子公司万里眼都单独设了展台，摆着数字网络测试、高频芯片测试的新产品。

但一圈看下来，不少人脸上都有点失望。

新凯来展品满场，独缺光刻机！国产半导体该冷静了

大家来这儿，多半是想看看传说中的国产光刻机，结果找遍展台都没见着。

后来跟几个逛展的人聊，发现好多人都被营销号带偏了，以为新凯来就是做光刻机的，搞不清人家的业务范围到底是啥。

其实新凯来确实做半导体装备，但真负责光刻机攻坚的，是另一家叫宇量昇的公司，上海宇量昇科技有限公司。

这家公司挺有意思，股权对半分，新凯来这边对应上海国资，创科微那边对应深圳国资，相当于两地国资一起支持。

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之前9月有媒体说，他们的28纳米光刻机已经进了中芯国际的产线测试，还想用来生产7纳米芯片。

本来想这是个大消息，结果后续连个权威说法都没有，到底测成啥样谁也不知道。

更让人无奈的是，这条没谱的消息传着传着就变味了。

有些自媒体直接吹“赶荷超美近在眼前”，还说“有了DUV，95%芯片能国产，剩下5%等一两年EUV就搞定”。

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这话听着就悬，上一个被这么爆炒的还是上海微电子。

今年8月，一堆“28nm光刻机量产”“EUV技术突破”的说法满天飞，甚至还有人说上海微电子要借壳上市，好多投资者跟着冲进去，最后啥动静没有，全被套住了。

后来查了下，营销号说的上海微电子28nm光刻机，应该是SSA800型号。

这设备2023年还见过官方报道，之后就没声儿了。

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光靠营销号的话判断行业进展，真不是明智之举。

没看到光刻机？先搞清楚差距到底有多大

逛展的时候，有个大哥跟我聊，说“搞半导体跟搞军工一样，肯定是藏着掖着，明面上的都是最差的”。

这话听着好像有道理，但仔细想想不对。

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军工能保密，是因为整条产业链都要藏着，跟外界隔离开。

可半导体设备是市场化的东西，整条链上那么多环节，想完全保密根本不可能，真有进展早该有蛛丝马迹了。

到现在也没见国产尖端芯片真正面市，这才是最实在的证明。

成熟制程上咱们确实不差，大部分都能国产化，但差就差在先进制程上。

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台积电都计划2025年第四季度量产2nm芯片了，要是咱们真能用28nm光刻机做出7nm芯片，这中间差多少代呢？

有些自媒体说只差一代，因为有了DUV下一步就是EUV。

从设备角度勉强能扯通，但从芯片制程看，至少差4代。

我同事之前对这代差没概念，我让她掏出手机查芯片型号，一看是前年买的手机，用的还是4nm芯片。

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她这才反应过来，“哦原来咱们假设的7nm，比我手机里的还落后两代”。

而且得说清楚，现在的制程编号早不是芯片物理尺寸了，更多是厂家用来区分技术代际的，核心看生产工艺进步多少，比如性能提升了多少，功耗降了多少。

设备从实验室到工厂量产，可不是一天两天的事。

行业里都知道，这得按年算，光验证就得两三年。

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所以但凡对行业有点了解，都不会说出“等一两年EUV就成”的话。

中国半导体行业协会有报告说，乐观估计追平国际先进水平得5-10年，这话我觉得挺实在。

还有个点得说透，咱们现在走的“DUV+多重曝光”路线，看着是弯道超车，其实有不少缺点。

就拿用28nmDUV做7nm芯片来说，良品率比EUV低不少，算力也跟不上，散热和能效更是差一截。

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这顶多是个替代方案，算不得真的“超车”。

光源能弯道超车？真相没那么简单

除了制程，之前还有不少人炒光刻机光源的进展。

年初有小作文说，国产EUV用了LDP技术，在东莞测试，2025年三季度试生产，2026年量产，还配了张EUV物镜装调干涉仪的图。

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本来想这要是真的，那确实是大突破，结果后来查了才发现，那图跟LDP技术根本不搭边，这事最后也不了了之。

但这事背后牵扯出一个关键问题，光刻机光源的技术路线之争。

现在EUV主流路线就两条：LPP和DPP。

就是电离锡靶的方式不一样，DPP是靠电极高压放电，用洛伦兹力压缩原子电离，叫箍缩效应，LPP是用激光轰击锡靶让它电离。

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这么多年下来，LPP成了主流，主要是因为它的光源质量更高，设备设计寿命也更长，ASML现在就用的这个路线。

那之前炒的LDP技术是啥？有些报道说它是LPP和DPP的结合，其实不对。

LDP只是先用激光预热靶材，最后还是靠电极放电电离，严格说就是DPP的升级版。

它比普通DPP好点，缓解了电极热负载过高和腐蚀的问题，寿命长了点，但想跟LPP比，还差得远。

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国内在光源上的进展也得客观看，中科院上海光机所2024年说做出了13.5nm波长的LPP光源，这是EUV的核心波长，但功率只有ASML商用光源的三分之一，稳定时间还不到100小时。

离真正商用还有好几年的路要走，逛完湾芯展，再梳理这些信息，其实能明白一个道理。

国产半导体的“追光之路”，根本不是靠营销号喊几句就能加速的短跑，而是得正视差距、一步一步来的马拉松。

咱们确实在成熟制程装备和先进制程替代方案上有进步，但也得清醒，“赶荷超美”不是一天两天的事。

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那些“一两年突破EUV”“95%芯片国产化”的说法，既忽视了行业规律，还容易误导人，催生投资泡沫。

这个行业要的不是短期狂欢，而是长期主义。

少点浮躁的炒作，多点务实的研发，这样国产半导体才能真的走得稳、走得远。

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