上海华力申请前馈刻蚀偏差的套刻精度控制方法及系统专利，提高后续对准层套刻误差稳定性

景点排名 2025年08月13日 18:39 0 aa

金融界2025年8月13日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“前馈刻蚀偏差的套刻精度控制方法及系统”的专利，公开号CN120469150A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本发明提供了一种前馈刻蚀偏差的套刻精度控制方法及系统，属于半导体领域。该前馈刻蚀偏差的套刻精度控制方法包括提供一套刻标识；获取被对准层边缘区域的所述套刻标识的线宽Em和Em'，计算得到Km＝Em/Em'；量测对准层的套刻误差数据，并建立套刻误差随晶圆表面位置的线性模型；获取任一后续被对准层边缘区域的所述套刻标识的线宽En和En'，计算得到Kn＝En/En'；基于Km、Kn及所述线性模型，对任一后续对准层进行预补修正。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2081次，专利信息2395条，此外企业还拥有行政许可346个。

本文源自金融界