鑫柔科技取得一种掩模版以及曝光装置专利，具有良好的耐磨性和抗静电击伤能力

排行榜 2025年08月16日 17:18 0 admin

金融界2025年8月16日消息，国家知识产权局信息显示，浙江鑫柔科技有限公司取得一项名为“一种掩模版以及曝光装置”的专利，授权公告号CN223229847U，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种掩模版以及曝光装置，涉及曝光技术领域。该掩模版包括基板、遮光层、导电镀层和保护镀层。遮光层、导电镀层和保护镀层依次设置于基板上，遮光层包括图案区和边框区，边框区围设于图案区外，导电镀层和保护镀层均呈透明状，保护镀层用于保护导电镀层和遮光层；所述导电镀层同时与所述图案区和/或所述边框区导通，以防止遮光层受静电击伤。与现有技术相比，本实用新型提供的掩模版由于采用了设置于遮光层外的导电镀层以及设置于导电镀层外的保护镀层，所以具有良好的耐磨性和抗静电击伤能力，能够有效避免磨损以及遮光层受静电击伤的情况发生，延长使用寿命。

天眼查资料显示，浙江鑫柔科技有限公司，成立于2019年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1580.926万美元。通过天眼查大数据分析，浙江鑫柔科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息73条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自金融界