新毅东申请光刻机的曝光剂量计算方法专利，结合曝光时间精确且快速实时地计算出曝光剂量

AI科技 2025年08月15日 14:03 0 aa

金融界2025年8月15日消息，国家知识产权局信息显示，新毅东（北京）科技有限公司申请一项名为“光刻机的曝光剂量计算方法”的专利，公开号CN120491403A，申请日期为2025年07月。

专利摘要显示，本申请涉及光刻机技术领域，更为具体地说，涉及一种光刻机的曝光剂量计算方法，提供了一种光刻机的曝光剂量计算方法，该光刻机的曝光剂量计算方法包括：在匀光系统两端的第一分光棱镜和第二分光棱镜处分别设置第一反射率传感器和第二反射率传感器以获得光源发出的光经硅片、物镜和掩膜版反射后从第一分光棱镜和第二分光棱镜的斜边透射出的辐射通量；基于所述第一分光棱镜和所述第二分光棱镜采集到的辐射通量分别确定所述匀光系统对光线能量的折损率、所述硅片的反射率和所述物镜的反射率；以及，基于所述匀光系统对光线能量的折损率、所述硅片的反射率和所述物镜的反射率确定辐射通量。这样，可以结合曝光时间精确且快速实时地计算出曝光剂量。

天眼查资料显示，新毅东（北京）科技有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3589.4516万人民币。通过天眼查大数据分析，新毅东（北京）科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目63次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息125条，此外企业还拥有行政许可7个。

本文源自金融界