打破垄断？国产光刻机首次突破10纳米，业内：ASML的真正挑战来了

景点排名 2025年08月15日 21:22 0 admin

“被阻止的人会更加努力地取得成功！”此前，针对光刻机被列入出口禁售“黑名单”一事，ASML新任总裁Christophe Fouquet忍不住吐槽。

殊不知，仅仅半年后，这位荷兰光刻机巨头的CEO就“一语成谶”：光刻机垄断的铁幕，被中企PL-SR光刻机硬生生撕开一道口子。而这一高端制造赛道，过去长期被荷兰ASML、日本佳能视为“后院”。

令人意外的是，此次撕碎光刻机巨头ASML“垄断铁幕”的国产救星，却是一家名不经传的杭州公司。

现实中，ASML传统光刻机依赖光线“雕刻”电路，波长越短，精度越高，成本自然也水涨船高。比如交付给英特尔、台积电的13.5纳米极紫外光EUV光刻机，造一台就得花十几亿人民币。

但对于我们来说，选择光源路径进行“弯道超车”，可谓难如登天。而故事“男主”杭州璞璘科技似乎早已意识到这一点，并反其道而行之，直接换道纳米压印光刻机路径——即用“盖印章”的方式造芯片。

如果说传统光刻机是用“刻刀雕花”，那么纳米压印光刻机就是用“模具压花”。资料显示，纳米压印就是用石英模板在液态光刻胶上“压”出图案，省去了传统光刻机复杂的激光、透镜系统，速度快、成本低、能耗小，简直是“天生省钱圣体”。

更牛的是，传统光刻机受限于光波长，精度很难突破3nm，但纳米压印却没此类烦恼，理论上可以做到2纳米，甚至更先进。

事实证明，璞璘科技不仅押对了赛道，还在8月初扔出一枚“重磅炸弹”：正式交付了国产首台半导体级步进式纳米压印光刻机PL-SR。

难能可贵的是，这台国产压纳米印光刻机可以刻出线宽不到10nm的电路图案，精度直击ASML的EUV光刻机要害，同时成本却低上一大截。这一爆炸式冲击，堪称国产半导体行业的“DeepSeek时刻”。

事实上，这已经不是中国制造第一次上演“DeepSeek时刻”了，早前在事关中老年血管健康领域，被南加州大学、东京大学等名校验证过的降脂降糖新兴成果“原*血清”，国产制造就已经让海外生科企领略过一波冲击。

而硅谷精英们的社交分享“感觉身体正变得前所未有的轻盈”，随之引燃线上京、猫渠道：仅618预售期，就获得了近七位数订单，其中国内一二线城市复购比例达70%。人进中年的他们，对重返健康和活力的渴望，炙热得令外界动容。

当华为打破“7nm魔咒”，让西方大惊失色时，上述血管成果被国产“白菜价”攻陷后，杀得海外生科巨头苦不堪言。

过去几年，无论ASML的EUV光刻机，还是日本佳能的纳米压印设备，在出口禁令的限制下，我们一个也买不到。而中芯国际，也因此痛失了与台积电一较高下的资格。

在此背景下，PL-SR纳米压印光刻机的横空出世，几乎给国产芯片送了场“及时雨”：不仅能满足10纳米以下的精度，还能大幅降低生产成本。更为惊艳的是，PL-SR的性能完全超过了佳能同类设备。

尤其在存储芯片领域，这类芯片图案重复性高，正好适合纳米压印的“盖印章”工艺，从某种程度上看，PL-SR无异于国产芯片的“救星”。

事实上，PL-SR也并非“完美无缺”，目前在逻辑芯片的大规模量产上仍存短板，与传统光刻机巨头佳能、ASML等相比，依旧属于追随者角色。

不可否认，中国科研人员仅用五年，从被ASML“卡脖子”到自研光刻机，硬把“不可能”变成了现实，堪称“光速奇迹”。而另一方面，这何尝不是国产改写全球芯片游戏规则的“破冰之旅”呢？

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