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2025-08-02 0
7月31日消息,据《日经新闻》报道,日本相机、打印机、光刻机大厂佳能(Canon)位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于9月正式投入量产,主攻成熟制程及后段封装应用设备,为全球芯片封装与成熟制程市场提供更多设备产能支持。
据介绍,这座新工厂是佳能在2023年开始动工建设的,并可能使用自家开发的Nanoimprint(纳米压印)技术,总投资额超过500亿日元,涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达6.75万平方公尺,投产后将使光刻设备总产能提升50%。
目前,荷兰ASML 几乎垄断了全球90%以上的光刻机市场,不仅面向先进制程的浸没式DUV光机市场,ASML几乎独占,在极紫外光(EUV)光刻机领域更是只有ASML一家供应商。
但是,在成熟制程(I-line和KrF)及先进封装光刻机领域,佳能仍有一席之地。特别是后段制程设备,约占其总销售额的30%,主要供应台积电等封装客户,用于中介层与多芯片模块制作,与ASML 在市场定位上并不直接竞争,而是专攻ASML 不重视的市场。
随着AI 芯片推动CoWoS 与多芯片封装需求持续攀升,佳能在封装光刻机领域的技术优势有望持续受益。新厂投产将有助于佳能在全球光刻机市场中稳固既有优势,并为AI 与先进封装需求提供更灵活的产能应对。
编辑:芯智讯-林子
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