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阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

景点排名 2025年10月19日 07:57 0 aa

阿斯麦CEO克里斯托夫·富凯最近说了一句实话，直接把中国在光刻机领域的努力推到了聚光灯下。

他表示，中国确实非常努力地在做光刻机研发，但距离阿斯麦目前的技术水平，还有很远的路要走。

这话不拐弯抹角，既肯定了中国的投入，也摆明了行业现实。这场关于光刻机的全球技术赛跑，其实就是一场看谁能笑到最后的马拉松。

阿斯麦为什么一直能在前头？中国凭什么能迎头赶上？这些问题背后，既有技术的门道，也有国际竞争的风浪。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

技术差距的现实：阿斯麦站在高地，中国正全力追赶

说到光刻机，圈内都知道阿斯麦占着绝大部分高端市场份额。它手里握着最先进的技术门槛，谁想进来都得过阿斯麦这一关。

这家公司的设备特别复杂，光一台EUV光刻机，零部件数量多得吓人，配套的供应链横跨全球，光是装配和调试就让很多企业望而却步。

阿斯麦的核心技术，比如极紫外光源的效率、纳米级别的精度、系统的稳定性，都不是一天两天就能追平的。

阿斯麦一直在更新自家的技术，从没停下脚步。比如新一代的高数值孔径光刻机，瞄准的是更先进的芯片制造工艺。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

这些设备对技术要求极高，全球能做出来的企业屈指可数。阿斯麦的技术被众多芯片厂认可，已经成了很多企业的首选设备。

反观中国，虽然在光刻机研发上投入巨大，但在一些核心环节上还有差距。比如最关键的光源技术，中国目前的转换效率还比阿斯麦差一大截。

还有超精密的光学系统、稳定的机械控制，这些领域中国还在补课。

要想从实验室的样机走到大规模商用，过程非常漫长，各种测试、验证、优化，每一步都得脚踏实地。

阿斯麦的设备已经在全球各种顶级晶圆厂里用得得心应手，而中国的设备还在逐步突破工艺验证关卡。

说到底，这种差距不是一朝一夕能补上的，需要时间、经验和持续投入。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

中国的努力与突破：创新路线和产业链协同渐显成效

虽然差距存在，但中国的追赶速度同样让人印象深刻。面对阿斯麦设置的技术和专利壁垒，中国没有盲目跟风，而是选择了差异化的技术路线。

比如在光源技术上，中国走激光诱导放电等离子体这条路，虽然目前效率还不高，但优点是成本低、能耗小，等工艺成熟后有望缩小同阿斯麦的距离。

除了光源，中国在电子束光刻等领域也有自己的探索。

这些技术虽然现在还无法全面替代高端EUV光刻机，但已经能在一些特定工艺段发挥作用。技术路线的多样化，给中国带来了更多可能性，也避免了被外国企业“卡脖子”的风险。

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在硬件设备上，中国企业也在不断攻关。上海微电子等公司已经能量产90纳米的光刻机，更先进的28纳米机型也在做客户验证。

虽然和国际最顶尖的设备还有差距，但国产设备的稳定性和可靠性已经有了很大进步。

更值得一提的是产业链上游的突破。国产的光学部件、机械系统、控制软件等逐步实现了自主可控。

像双工件台、核心光源这些关键部件，国产化程度不断提升。华为等龙头企业还牵头组建了产业联盟，推动操作系统、控制平台的本地化开发，进一步完善了整个生态链。

中国的主要晶圆厂已经为国产设备预留了生产线。经过实际生产测试，国产设备在成本控制、维护便利性等方面逐渐展现优势。

国家政策也加大了投入，专项基金和产业扶持，让整个光刻机产业有了更坚实的后盾。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

追赶之路不易：经验积累、生态构建和全球竞争多重考验

中国在光刻机领域取得的突破确实值得肯定，但要想从跟跑变成领跑，这条路远没有想象中好走。

首先，阿斯麦积累的技术经验，是几十年沉淀下来的“独门绝技”。

光靠投入资金，短时间内很难把所有的技术都吃透。尤其是EUV光刻机的制造、调试和维护，需要大量现场经验和工艺诀窍，这些都得一点点积攒。

高端光刻机对人才的要求极高。全球懂得这门技术的专业人才并不多，谁都想招到高手，但培养一个合格的工程师，往往要花上好几年甚至更久。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

中国虽然在加速培养人才，但人才储备和国际巨头相比还有差距。

光刻机背后是一个庞大的协作网络。阿斯麦能做到行业领先，离不开背后成熟的全球供应链。

中国虽然在推动供应链国产化，但要把所有环节都打通，还需要更多的时间和实践。

国际大厂对阿斯麦设备早已形成了信任和依赖，而国产设备要赢得市场和口碑，同样要经历一个长期的过程。

国际政治环境也给中国光刻机发展带来新的挑战。美国联合盟友对中国实施高端设备和技术出口限制，关键技术和部件的获取受到很大影响。

中国有一些反制手段，比如稀土资源，但供应链的安全和稳定，也成了所有企业都要权衡的难题。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

全球产业链的复杂性，决定了光刻机这场竞争，不光是技术比拼，更是全球资源和政策的较量。

结语：创新体系与耐心比拼，马拉松才刚刚开始

阿斯麦的CEO说得没错，中国在光刻机领域的努力已经让人刮目相看，但追赶的路还很长。

技术领先不是一蹴而就，背后是几十年的工艺积累和无数次失败的试错。

阿斯麦依靠成熟的生态体系和技术壁垒，依然是高端市场的“守门人”。但中国凭借自己的创新路径和产业协同，已经在一些细分领域看到希望。

未来几年，中国有望在28纳米及以上的设备上实现大规模应用，基本满足国内大部分芯片厂的需求。

阿斯麦CEO：中国开发光刻机很努力，但想追上我们有很长的路要走

随着新技术路线的推进，中国会继续缩小和国际巨头的差距。长期来看，全球半导体格局会变得更加多元。

中国只要保持战略耐心，持续加大研发投入，既突破关键技术，也完善产业生态，终将迎来属于自己的高光时刻。

光刻机的竞争，归根结底是创新能力和产业协同的较量。这场马拉松没有终点，只有不断追赶和赶超的脚步。中国正走在路上，世界都在看。

参考资料：
ASML：中国芯片制造技术落后西方10-15年.观察者网.2024-12-27

日媒：中国正努力开发自有光刻技术，囤积阿斯麦设备库存为取得突破赢得了时间.观察者网.2025-07-16

阿斯麦的好日子还有多久.南风窗.2025-09-05

中国半导体厂商加快国产替代步伐.财经.2024-09-09

国产EUV光刻机有重大突破！.市场资讯.2025-07-01

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