EUV光刻，电子束光刻机进展到0.6纳米，可以制造EUV掩膜版。EUV光源，能到第二代250瓦一半水平，学ASML有120多瓦和哈工大有80瓦。当时A...
2026-08-17 32
中国EUV光刻机可能有ASML一代水平
AI科技
2026年08月17日 15:48 32
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