深圳确认新凯来在湾芯展带来惊喜！会发布国产EUV光刻机吗？

排行榜 2025年10月14日 14:43 0 admin

在今年3月的举行的SEMICON China 2025上，脱胎于华为团队、现由深圳国资委全资控股的新凯来发布了六大类共计30多款设备，其中包括生产芯片所需要的刻蚀设备、扩散产品、薄膜产品、光学检测设备等，几乎涵盖了半导体制造的全流程工具。

用“不鸣则已、一鸣惊人”形容新凯来上半年的表现一点都不夸张，据此不少人将此称为中国半导体设备的“deepseek时刻”。

10月15日至10月17日，湾芯展将会在深圳举办。深圳发改委主任郭子平在之前的新闻发布会高调宣布，“新凯来将在这次展会中带来意想不到的惊喜”。

何为意想不到的惊喜？在我看来只有发布我国自主研发的光刻机了。一来上光刻机是半导体产业链里最核心、最复杂的设备，决定了生产芯片的工艺制程；二来上半年新凯来发了大量设备，唯独没有光刻机。

要是能够带来国产光刻机，那么将改变国内只有上海微电子才能制造光刻机的局面，可以算是“惊喜”。而光刻机属于湿式DUV型的话，就真的是“意想不到的惊喜”了，足以载入中国半导体行业发展的史册。

很多人可能觉得湿式DUV光刻机不够看，咱们要搞就搞EUV光刻机。

我不反对弯道超车，但科技发展还得脚踏实地一些，一口气吃不成胖子，真能自主研发湿式DUV光刻机已经是非常、非常大的突破了。

从光刻机发展的历史进程看一共有6代产品，分别是G线、I线、KrF、干式DUV、湿式DUV和EUV光刻机。去年9月，工信部公布了一批新设备，其中包括两台光刻机，一台是氟化氪光刻机，另一台是氟化氩光刻机，前者是第三代KrF，后者是第四代干式DUV。

当时，有人看到氟化氩光刻机的套刻精度是8纳米时便误以为我们已经制造出能生产8纳米工艺制程的湿式DUV光刻机了。

实际上并非如此，套刻精度和工艺制程不是一个概念，这台氟化氩光刻机依然是干式DUV。以荷兰ASML的产品线为例，TWINSCNAXT：1460K光刻机的套壳精度达到了5纳米，属于干式DUV光刻机，一般只能量产65纳米制程的芯片。

现在主流湿式DUV光刻机的套壳精度在1.3纳米至2.5纳米之间，只有阿斯麦和日本的两家公司能够制造。

因此，只要新凯来在湾芯展上拿出自主可控的湿式DUV光刻，即便性能略微比阿斯麦和日本厂商的差一点，也绝对是“意想不到的惊喜”了。

那么新凯来到底能不能真的带来惊喜呢？

一些网友认为新凯来不造光刻机，所以即便发布再多半导体设备也不会包括这一工业皇冠上的明珠。

新凯来本身或全资子公司也许确实没有将主要精力放在光刻机上，但其与创科微共同出资设立的上海宇量昇科技有限公司专注于半导体专用设备研发与制造，聚焦光刻技术领域，承担突破关键技术的研发使命。可见宇量昇是做光刻机的。

另外，根据外媒报道，中芯国际正在测试宇量昇研发的湿式DUV光刻机。

考虑到中芯国际和宇量昇的总部都在上海浦东，而华为（与新凯来密切相关）又在上海青浦区设立了研发中心，几家中国半导体巨头的地理位置极近，便于“悄悄地”搞点大事情。所以外媒的报道可能并非空穴来风。

宇量昇的两大股东里，新凯来背后是深圳国资委、创科微则是上海国资委旗下的企业，全国科创、制造能力最强的两座城市协作打造具有划时代意义的半导体设备。

这种模式符合我国集中力量办大事的风格，进一步提高了湾芯展上由新凯来或宇量昇发布第五代湿式DUV光刻机的可能。

我相信只要造出了湿式DUV光刻机，那么将最先进的EUV纳入国产设备行列将只是时间问题，并且大概率用不着等待太久。

正如前文所述，光刻机是半导体产业链上至关重要的设备，有了高世代（第五、第六代）光刻机意味着我们将彻底不惧美国等西方国家在半导体领域的“卡脖子”。

相反，中国在稀土供应方面的垄断优势将让我们在大国博弈中占据主动地位。

一起期待即将开启的湾芯展传来好消息！

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